点击图片查看原图工业及商用纯水设备
电子行业专用超纯水设备
电子制造应关注超纯水水质，在超大规模IC的超纯水水质中，优先关注的水质指标为：电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、硅、碱金属、碱土金属、重金属、溶解氧、在超纯水中，细菌的影响与TOC、微粒基本相同，在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不纯物质或微粒，将导致栅氧化膜厚度不均，产品图形发生缺陷，耐压性变差，超纯水中的微量有机物会使产品结晶不良，在IC芯片制造过程中，与硅片接触的水所含离子越多，对产品良率影响就越大。电阻率反映了超纯水中离子的含量，超纯水的电阻率越高，其纯度也就越高。一般来讲，在25℃时，理论纯水的电阻率是18.25MΩ·cm。
应用领域：半导体材料、光电子产品、高科技精微产品超纯水设备；
水源：市政自来水 水质要求：a、电阻率：≥18.2MΩ/cm
压力：0.35MPa b、TOC： ＜10mg/L
温度：25℃ C:Particle：＜0.1μm
PH： 6-8 d:Particle：＜0.2μm
有机物：（TOC）≤0.5 （建议为零） 重金属：（Fe、Mn）≤0.01mg/L
工艺流程;
原水→预处理→保安过滤器→中间水箱→一级高压泵→一级RO反渗透装置→一级RO水箱→二级高压泵→二级RO反渗透装置→二级RO水箱→EDI增压泵→EDI(CEDI)电去离子水系统→氮封水箱→核子级抛光混床→终端精密过滤器→UV紫外线杀菌→终端用水点。