工业及商用纯水设备
电子行业专用超纯水设备
电子制造应关注超纯水水质,在超大规模IC的超纯水水质中,优先关注的水质指标为:电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、硅、碱金属、碱土金属、重金属、溶解氧、在超纯水中,细菌的影响与TOC、微粒基本相同,在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不纯物质或微粒,将导致栅氧化膜厚度不均,产品图形发生缺陷,耐压性变差,超纯水中的微量有机物会使产品结晶不良,在IC芯片制造过程中,与硅片接触的水所含离子越多,对产品良率影响就越大。电阻率反映了超纯水中离子的含量,超纯水的电阻率越高,其纯度也就越高。一般来讲,在25℃时,理论纯水的电阻率是18.25MΩ·cm。
水源:市政自来水 水质要求:a、电阻率:≥18.2MΩ/cm
压力:0.35MPa b、TOC: <10mg/L
温度:25℃ C:Particle:<0.1μm
PH: 6-8 d:Particle:<0.2μm
有机物:(TOC)≤0.5 (建议为零) 重金属:(Fe、Mn)≤0.01mg/L
工艺流程;
原水→预处理→保安过滤器→中间水箱→一级高压泵→一级RO反渗透装置→一级RO水箱→二级高压泵→二级RO反渗透装置→二级RO水箱→EDI增压泵→EDI(CEDI)电去离子水系统→氮封水箱→核子级抛光混床→终端精密过滤器→UV紫外线杀菌→终端用水点。